Synopsys a anunțat că instrumentele sale de proces de proiectare și IP sunt gata pentru procesul de fabricație 2NM la Samsung Wafer Foundries.Samsung a anunțat recent că va produce în masă cipuri de semiconductor proces 2NM în 2025 și a declarat că procesul va fi îmbunătățit în continuare în 2027. Instrumentul de proiectare EDA al Synopsys a trecut certificarea procesului 2NM GAA de la Samsung.
Conform Introducerii oficiale, Kit -ul EDA al Synopsys poate îmbunătăți migrația de proiectare a simulării, PPA (eficiența zonei, performanța și eficiența energetică) și productivitatea nodurilor procesului GAA 2NM Samsung Wafer Foundry 2NM.Sinopsys utilizează inteligența artificială (AI) pentru optimizarea colaborativă pentru a ajuta Samsung să îmbunătățească eficiența zonei, performanța și eficiența energetică a procesului 2Nm.
Instrumentele DSO.AI și ASO.AI Synopsys au fost migrate cu succes de la FinFET la GAA Architecture, ceea ce înseamnă că clienții își pot migra fără probleme proiectele de cipuri FinFET existente către noul proces 2NM GAA.
Companiile de cip pot utiliza instrumente Synopsys pentru a dezvolta noi tehnologii de proiectare a cipurilor, inclusiv cablarea sursei de energie din spate, metodele de percepție a efectului local de aspect și proiectarea unității Nanosheet, îmbunătățind astfel eficiența și performanța proceselor SF2.Samsung a declarat că nodul procesului SF2Z poate îmbunătăți în continuare performanța, consumul de energie și densitatea (cu 20%).
De asemenea, Synopsys a dezvăluit că IP -ul său UCIE a fost utilizat la producția de jetoane la nodurile de proces Samsung SF2 și SF4X.În plus, aceeași soluție DTCO va fi, de asemenea, utilizată pentru a optimiza nodul de proces de 1.4nm al Samsung (SF1.4).
